新規事業研究会月例会講演要旨

(平成30年)
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    • 講演:『世の中の新しい改革的動き』
          明星大学 名誉教授
          大塚 寛治(オオツカ カンジ) 氏
       
    • 講演日:平成30年1月21日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       世界の資本金トップ10の2006年は石油会社や銀行が大部分を占めていたが2017年では70%が情報関係の会社になり、日本はその末端も汚していない。日本の10年前の地球シミュレータ、4年前Kコンピュータはその当時世界トップの性能を誇り、胸を張っていたが、スタンドアロンで終わり、情報社会への侵入という意図すら感じられないで1500億円以上の政府資金でネクストKプロジェクトは進んでいる。「技術の社会への還元」でWin-Winに思いをはせる経営者が日本に少ないように思われる。本日は情報社会の未来へ向けた展開を知ってもらい、どのようにWin-Win企画を考えていただくかの資料としたい。展望はいろいろあるが、ここでは日本が取り戻せる可能性があるメジャーなシステムを2つ、省エネルギ情報処理技術(人間の脳のように演算と記憶が同じ回路となる、データ圧縮解凍、暗号化など)と映像表示技術(省エネ高精細なマイクロLEDによる2D表示および3D拡張空間表示)を取り上げ、どのように日本主体の導入を図れるかも議論したい。

     

    • 【略歴】
      京工大卒、東工大工博、IEEE Fellow、明星大学名誉教授、主幹研究員、社団法人電子実装工学研究所理事、 34年間日立製作所在勤、前半は半導体黎明期から設計開発、後半はコンピュータの設計開発時従事し、情報社会の骨となる技術の設計開発知識を習得25年間明星大学在勤、情報学研究科長、学部長を経験、リタイア後も研究室設立し一貫して情報技術の先端の研究開発従事26年前IEEE(米国)の出先国際会議ICSJ(日本)の創始者など、50年以上IEEE EPSの重鎮として常に貢献している。

     



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    • 講演:『Si蒸気圧熱平衡環境を用いたSiC表面ステップ制御サーマルエッチング(パワー半導体品質”を実現する新たな表面処理技術の紹介)』
          関西学院大学 理工学部先進エネルギーナノ工学科 教授
          金子 忠昭(カネコ タダアキ)氏
       
    • 講演日:平成30年1月21日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       SiCは加工が極めて困難な硬脆材料の一つであり,ウェハ切り出し後の精密研磨を経ても表面直下には加工歪み領域が残存するという問題があった. SiCウェハに導入されたままの外因的な歪みを取り除き、 さらに表面に熱的に安定で再現性の高いステップテラス構造を形成可能な表面処理技術は、成長層の結晶品質が下地SiC基板の表面品質をそのまま引き継ぐエピ成長の前工程技術として必要不可欠である。そこで我々は、新たな加工技術として、SiCウェハからの熱昇華(1500-2000℃)のみで高速エッチングを実現する表面処理法の開発を進めてきた。アニール機能を包含するSiCプロセスであることから、加工歪み層の除去のみならず、プロセス後表面に現れるステップの構造的特性をも制御が可能となる。このプロセスは、反応容器内に閉じ込めたSi蒸気圧により誘起されることから“Si蒸気圧エッチング”とよぶ。本技術の詳細について報告する。


    • 【略歴】
      1986   国際基督教大学教養学部卒業
      1991   大阪大学大学院工学研究科博士課程 終了(工学博士)
      1991-94英ロンドン大学インペリアル・カレッジにて
            新技術事業団「新素材の原子配列設計制御プロジェクト」
      1995-97独マックスプランク固体物理研究所
      1997   関西学院大学理学部物理学科
      2015   関西学院大学理工学部先進エネルギーナノ工学科


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    • 講演:『熱プラズマのエネルギー・環境分野への応用』
          九州大学 大学院工学研究科 化学工学部門 教授
          渡辺 隆行(ワタナベ タカユキ)氏
       
    • 講演日:平成30年2月10日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       大気圧近傍で発生する熱プラズマは1万度以上の高温を有する熱流体であり,その特長を活かした様々なプロセッシングが開発されている。熱プラズマは単に高温であるという特長だけではなく,高温から一挙に常温までの冷却過程をプロセスとして活用できることも重要である。熱プラズマを廃棄物処理に用いる場合には,プラズマが有する高温を利用して原料を蒸発あるいは溶融させ,下流ではプラズマの流れの状態による冷却過程が重要な役割を果たしている。高速クエンチングを利用することによって,熱プラズマ中の非平衡状態を生み出し,副生成物の発生を抑制することができる。このような特長を活かして熱プラズマを廃棄物処理に用いる場合には,直流放電,交流放電,高周波放電による熱プラズマ発生システムがある。廃棄物処理に用いるという観点からそれぞれの熱プラズマの特徴を紹介する。

     

    • 【略歴】
      学歴:
      1984.3 東京工業大学 工学部 化学工学科卒業
      1986.3 東京工業大学大学院 理工学研究科 化学工学専攻 修士課程修了
      1991.12 博士(工学)東京工業大学「熱プラズマ流のモデリングと制御」

      職歴:
      1986.4 東京工業大学 工学部 化学工学科 助手
      (1994.6-1995.3 文部省在外研究員 ミネソタ大学 機械工学科 客員研究員)
      1995.4 東京工業大学 工学部 化学工学科 助教授
      1998.4 原子炉工学研究所,総合理工学研究科 化学環境学専攻 准教授を経て,
      2013.4 九州大学 大学院工学研究院 化学工学部門 教授

      専門:
      プラズマ化学(特に熱プラズマ発生,モデリング,熱プラズマ応用),エネルギー工学

      受賞:
      2006.6 日本学術振興会プラズマ材料科学賞 (奨励部門)「熱プラズマ流のモデリング」
      2007.9 Microsoft Innovation Award優秀賞「大気圧プラズマによる廃棄物処理システム」
      2013.2 手島精一記念研究賞発明賞「インフライト溶融によるガラス製造方法」
      2014.10 日本学術振興会プラズマ材料科学賞 (基礎部門)「熱プラズマプロセッシングの開発およびプラズマ解析に関する基礎分野の確立」

     



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    • 講演:『ランダムレーザーの基礎およびその応用』
          九州工業大学 大学院情報工学研究院
          システム創成情報工学研究系 教授
          岡本 卓(オカモト タカシ)氏
       
    • 講演日:平成30年2月10日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       ランダムレーザーは光増幅媒質と散乱体で構成された、光共振器を持たないレーザーである。レーザーに必要な誘導放出光は、多重散乱により光が散乱体の内部で長い径路をたどることから発生する。さらに、光の共振もランダムに分布した散乱体により引き起こされる。この特殊な発振メカニズムにより、発生した光は時間的コヒーレンスがLEDなどの照明光よりも高いにもかかわらず、空間的コヒーレンスが低いという特徴を持つ。このことから、ランダムレーザーはスペックルが出ないレーザー光源とも言える。このように、ランダムレーザーは従来のレーザーにはない特徴を持っており、光干渉断層計(OCT)の光源等、さまざまな応用が提案されている。本発表では、ランダムレーザーの基本原理や研究の歴史、最新の研究動向、さらには今後の応用可能性について紹介する。


    • 【略歴】
      1986年 北海道大学大学院工学研究科電子工学専攻修了。1986年 日立製作所入社。1988年 北海道大学応用電気研究所助手。1993年 博士(工学)。1995年 防衛大学校電気工学教室講師。1998年 九州工業大学情報工学部助教授。2006年 同教授。研究分野は、光散乱、皮膚光学、および光計測。



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    • 講演:『ダイヤモンド製造技術開発の現状と将来展望』
          産業技術総合研究所 主任研究員
          山田 英明(ヤマダ ヒデアキ)氏
       
    • 講演日:平成30年3月18日(日)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール

    • 【講演要旨】
       ダイヤモンドの物性値は複数が物質中最高水準だが、現状では産業利用が限定的である。その理由の一つが人工合成技術の困難さにあった。1950年代に高温高圧合成法、1980年頃にプラズマCVD法にて合成実証されつつも、これまで1インチを超えるサイズの結晶が市販されることは無かった。近年、技術開発の進歩により、1インチ大のダイヤモンド塊や、インチサイズの平板が作製できる様になり、市販されつつある。これは、従来の機械用途のみならず、Si、SiCを超える性能に期待される大容量パワーデバイスや、ヒートシンク、これまでに無かった量子デバイスを用いたセンサーなど、様々な分野での応用を実現するための基礎技術が着々と積み重なっていることの証左とも言える。本講演では、ダイヤモンドに期待される産業利用から、その実現に必要不可欠となる製造技術開発の現状と展望について紹介する。

     

    • 【略歴】
       1974年 富山県 出身

      学歴:
       2002年 博士(理学)新潟大学大学院

      職歴:
       2002-2004年 京都大学大学院 産学連携研究員
       2004年-現在 産業技術総合研究所 特別研究員、研究員を経て、主任研究員、現在に至る
       尚、この間 2009年-2010年 (株)EDP 兼務

      専門:
       高温・低温プラズマ、ダイヤモンド合成・加工、シミュレーション

      受賞:
       2017年 第15回産学官連携功労者表彰 内閣総理大臣賞「単結晶ダイヤモンドの工業製品化」

     



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    • 講演:『風力発電、太陽光発電、スマートグリッドに関する最近の特許』
          東京工業大学 名誉教授
          筑波大学 特命教授
          嶋田 隆一(シマダ リュウイチ)氏
       
    • 講演日:平成30年3月18日(日)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール

    • 【講演要旨】
       地球温暖化議論はどうあれ、人類のこれからのエネルギーは、石油など化石エネルギーではなく再生可能エネルギー、特に太陽光発電、風力発電などになると理解されてきたようだ。この20年の技術進展によって、大型風車は数千kWの出力で稼働率40%(イギリスの洋上で)、太陽光はkWh当たり3円〔ドバイの例〕と飛躍的に進展した。旧原子炉研の嶋田研究室では、すでに20年前から、核融合ばかりでなく新エネルギー研究を先取りして取り組んできた。昨年には、未発表で東工大から出願していた効果のある関連特許が2,3成立したのでその説明をしたい。また、最近筑波大にて5年目になるパワエレ寄付講座において、次世代半導体スイッチを使って、スマートエネルギーの鍵技術となる直流電流の開閉器に関して、デモ装置(無アーク遮断技術東工大特許)も実演する。



    • 【略歴】
      嶋田隆一(Ryuichi Shimada)
      1948年生まれ,1975年東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻博士課程修了,工学博士,1975年日本原子力研究所入所,国プロである核融合実験装置(JT-60)の開発建設に従事,1988年4月東京工業大学工学部電気電子工学科助教授,1990年東京工業大学工学部電気電子工学科教授,1990年東京工業大学原子炉工学研究所教授.2005年統合研究院ソリューション研究機構教授 2011年卓越教授、2013年名誉教授、2014年筑波大学数理物質系物理工学パワエレ寄附講座 特命教授、現在に至る。 

      研究分野:主として大電力のシステム工学,核融合プラズマの制御,超電導電力貯蔵研究に従事,近年は磁気エネルギー回生半導体スイッチ(MERS:マース)の応用研究に注力している.電気学会進歩賞,論文賞2回,著作賞受賞,電気学会フェロー

      2016年5月電気学会業績賞(大容量パワーエレクトロニクス技術ならびに超電コイル技術への貢献)



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    • 講演:【特別講演】『NEW DIAMOND TECHNOLOGY社 会社紹介・技術説明』
          ロシア
          NEW DIAMOND TECHNOLOGY社 副社長(技術担当)
          アレクサンダー・コリャディン氏氏
       
    • 講演日:平成30年3月18日(日)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール



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    • 講演:『4H-SiCの熱酸化過程の材料学的理解とMOS界面特性の制御』
          東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 准教授
          喜多 浩之(キタ コウジ)氏
       
    • 講演日:平成30年4月21日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール

    • 【講演要旨】
       4H-SiCパワーMOSFETは,高効率なパワーエレクトロニクスのために普及が期待されるが,まだ多くの技術課題を残している。良好なMOS特性のためには,ゲート絶縁膜であるSiO2とSiCの界面に形成される,電荷を捕獲する欠陥構造の抑制が必須である。そこで酸素とSiCの反応過程を理解し,さらにその反応が質的に変化する要件を見抜いた上でプロセス設計を行うことが重要である。講演では,SiCの熱酸化過程の理解と制御に加え,酸化剤を酸素とした場合と水蒸気とした場合の反応の違いや,酸化反応に伴うSiO2/SiC界面近傍での局所的なSiO2やSiCの構造変化など,SiCの界面に特有な現象についても議論する。

     

    • 【略歴】
      1994 3月 東京大学 工学部化学工学科 卒業
      1996 3月 東京大学 大学院工学系研究科化学システム工学専攻修士課程 修了
      1996 4月 三洋電機(株)入社 研究開発本部ニューマテリアル研究所に勤務
      1998 3月 三洋電機(株)退社
      1998 4月 東京大学 大学院工学系研究科化学システム工学専攻博士課程 入学
      2001 9月 東京大学 大学院工学系研究科化学システム工学専攻博士課程 修了
      2001 10月 東京大学 大学院工学系研究科マテリアル工学専攻 助手
      2007 4月 同 講師
      2010 5月 同 准教授 現在に至る

     



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    • 講演:『SiCの新しい概念に基づく化学的研磨法』
          大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻 准教授
          佐野 泰久(サノ ヤスヒサ)氏
       
    • 講演日:平成30年4月21日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール

    • 【講演要旨】
       電力の有効活用のため、パワー半導体によってその周波数や電圧・電流比が変換・制御されている。現在その主役はシリコンであるが、より低損失化・小型化が可能な炭化ケイ素(SiC)が注目されている。SiCパワー半導体は既に種々の鉄道車両に搭載されて低電力損失化を達成し、いよいよ自動車への搭載等、本格的な普及が期待されているが、その最大の課題はコスト低減である。SiCはダイヤモンドに次ぐ硬度で加工が難しいことがコスト高の一要因であり、新規加工法が望まれている。本講演では、高圧力プラズマ中の高密度ラジカルによる高速エッチング技術であるPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)法や、触媒表面と接触した基板凸部が選択的に溶解される触媒表面基準エッチング(Catalyst-Referred Etching: CARE)法といった新しい化学的研磨法について紹介する。



    • 【略歴】
      1993年、大阪大学 大学院工学研究科 博士前期課程(精密工学専攻)修了。同年大阪大学工学部助手。2003年より同大学院工学研究科助教授(現准教授)。博士(工学)。高圧力プラズマを用いた高能率加工・超精密加工法、触媒表面基準エッチング法の開発等に従事。精密工学会、応用物理学会所属。



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    • 講演:『超高品質SiC溶液成長法の開発と機械学習を用いた高度化』
          名古屋大学未来材料・システム研究所 教授
          宇治原 徹(ウジハラ トオル)氏
       
    • 講演日:平成30年4月21日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館1Fロイアルブルーホール

    • 【講演要旨】
       我々は溶液成長法により非常に高品質なSiC結晶を育成する技術を確立した。これには、結晶成長表面に形成されるマクロステップの構造制御が重要で、そのためには、溶液中の流動を緻密に制御する必要があることがわかっている。
       最近では、さらなる大型結晶化を目指して、開発を進めているが、その開発においては、人工知能技術の一つである機械学習を活用し、実際に2インチ、3インチの結晶成長の実現に大きな力を発揮している。



    • 【略歴】
      1999年3月 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 修了
      1999年4月 東北大学金属材料研究所 助手
      2004年3月 名古屋大学大学院工学研究科 助教授
      2010年10月 名古屋大学大学院工学研究科 教授
      2016年10月 名古屋大学未来材料・システム研究所 教授

      現在は、それ以外に、
      産業技術総合研究所 GaNオープンイノベーションラボラトリー 副ラボ長
      株式会社UMaP 代表取締役 CEO


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    • 講演:『高電圧パワーデバイスに向けたSiC結晶成長と欠陥評価・制御技術』
          電力中央研究所材料科学研究所領域リーダ(電気材料領域)副研究参事
          土田 秀一(ツチダ ヒデカズ)氏
       
    • 講演日:平成30年5月12日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       4H-SiCショットキーバリアダイオードやMOSFETの開発、実用化が産業界で活発に進められているが、SiCパワーデバイスの適用をより広範囲、大規模なものにしていくためには、SiC単結晶ウェハの生産性向上や低コスト化が重要である。本講演では、高品質かつ低コストなSiC ウェハ技術開発として、4H-SiC エピ成長の高速化や大面積均一化、ならびにガス法による4H-SiCバルク成長の高速化を進めた研究成果を報告するとともに、これら結晶成長技術と並行して開発したSiC欠陥評価・制御技術を紹介する。
       本研究の一部は,総合科学技術・イノベーション会議のSIP(戦略的イノベーション創造プログラム)「次世代パワーエレクトロニクス/SiC次世代パワーエレクトロニクスの統合的研究開発」(管理法人:NEDO)によって実施されました。

     

    • 【略歴】
      1992年 電力中央研究所入所
      以来、SiC結晶成長・結晶欠陥評価に関する研究に従事
      1999年 博士(工学)
      2004年 応用物理学会論文賞(JJAP論文賞)
      2010年 電気学会電気学術振興賞(論文賞)
      2010年 電気科学技術奨励賞
      2015年 応用物理学会論文賞(優秀論文賞)
      2016-2018年 応用物理学会先進パワー半導体分科会幹事長
      現在、電力中央研究所材料科学研究所領域リーダ(電気材料領域)副研究参事、日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145委員会副委員長

     



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    • 講演:『ダイヤモンドエレクトロニクス』
          東京工業大学工学院電気電子系 准教授
          岩崎 孝之(イワサキ タカユキ)氏
       
    • 講演日:平成30年5月12日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       ダイヤモンドは大きなバンドギャップを有しその優れた特性から量子センサやパワーエレクトロニクスへの応用が期待されています。特に、ダイヤモンド中の窒素‐空孔(NV)センターを用いた量子センシングは様々な応用が期待されており、世界中で活発に研究されています。本講演では、NVセンターによる量子センシングを中心にダイヤモンドを用いたエレクトロニクスについて紹介します。



    • 【略歴】
      2008年早稲田大学大学院理工学研究科ナノ理工学専攻博士課程修了。博士(工学)
      2008年ドイツ・フンボルト財団研究員(マックスプランク固体物理学研究所)
      2010年日本学術振興会海外特別研究員(マックスプランク固体物理学研究所)
      2011年東京工業大学大学院理工学研究電子物理工学専攻助教
      2018年東京工業大学工学院電気電子系准教授 現職
      2016年科学技術振興機構さきがけ研究員(兼任)

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    • 講演:『パワーエレクトロニクスに必要な周辺技術』
          大阪大学大学院工学研究科 教授
          舟木 剛(フナキ ツヨシ)氏
       
    • 講演日:平成30年6月16日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       パワーエレクトロニクスは,省エネ,創エネに不可欠な技術である。新聞等でSiCやGaNといつたワイドバンドギャップ半導体パワーデバイスを用いることで,パワーエレクトロニクスの飛躍的な性能向上が期待できると書かれているが,問題はそんなに簡単ではない。これまでのパワーエレクトロニクスは,用いるSiパワーデバイスに対応した材料を用いたパッケージや回路実装が施されており,トランス・リアクトルやコンデンサなどの周辺部材と合わせたシステム設計がされている。しかしながらこれらは,必ずしもワイドバンドギャップ半導体を用いたパワーデバイスのの動作条件や特性に合致したものではない。すなわちその性能を活かすには,新たな周辺材料や部品・実装技術が必要となる。本講演では,ワイドバンドギャップ半導体を用いたパワーエレクトロニクスシステムの開発を俯瞰し,その課題を挙げ,技術開発の方向性を示す。

     

    • 【略歴】
      1991年大阪大学 工学部 電気工学科 卒業
      1993年大阪大学 大学院 工学研究科 電気工学専攻 博士前期課程 修了
      1994年大阪大学 大学院 工学研究科 電気工学専攻 博士後期課程 中退
      2000年博士 (工学) (大阪大学)
      1994年大阪大学助手 (工学部)
      2001年大阪大学講師 (大学院工学研究科)
      2002年京都大学助教授 (大学院工学研究科)
      2008年大阪大学教授 (大学院工学研究科)現在に至る

     



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    • 講演:『ダイヤモンド高感度量子センサ』
          京都大学化学研究所 無機フォトニクス材料研究領域 教授
          水落 憲和(ミズオチ ノリカズ)氏
       
    • 講演日:平成30年6月16日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       ダイヤモンド中のNV中心は近年、量子情報、超高感度・超高分解能センサ、バイオ応用等の幅広い分野において学術および応用の両面から注目されている。センサとしては主に磁場、電場、温度などのセンサとして注目され、既存のものよりも桁違いに高い感度を持つセンサ素子への応用が期待されている。また、ダイヤモンドは近年人工的に合成でき、大面積化が進んでいるが、一方で、数ナノから数百ナノ程度の粒径を持つナノダイヤモンド粒子も作製され、販売されている。このナノダイヤモンド中のNV中心を用いることにより、ナノメートルレベルの高空間分解能をもつセンサや、細胞中のバイオイメージングへの応用も期待されている。講演では近年のNV中心におけるトピックスやNV中心を用いたセンサの原理等を紹介する。



    • 【略歴】
      2000.03       東北大学 大学院理学研究科 化学専攻 博士課程後期課程 修了 博士(理学)
      2000.04-2002.09 図書館情報大学 助手
      2002.10-2005.02 筑波大学図書館情報学系 助手
      2005.03-2010.03 筑波大学大学院図書館情報メディア研究科 講師
      2006.09-       ドイツ・シュトゥットガルト大学物理学科 Wrachtrup教授研究室に渡航 [Total:18months]
      2010.04-2010.11 筑波大学大学院数理物質科学研究科 講師
      2010.12-2015.12 大阪大学 基礎工学研究科 物質創成専攻 准教授
      2016.01-       京都大学 化学研究所 教授

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    • 講演:『セルロースナノファイバー - 脱炭素社会における持続型材料 -』
          京都大学生存圏研究所生物機能材料分野 教授 農学博士
          矢野 浩之(ヤノ ヒロユキ)氏
       
    • 講演日:平成30年7月14日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       大気中のCO2削減は産業界が総力を挙げて取り組む喫緊の課題である。英国中央銀行は2017年の定期報告書の中で、パリ協定で定めた2℃目標達成のためには石炭、石油、天然ガスが燃やせなくなることを報告している。すなわち、これらの天然資源は近い将来において座礁資産化することが予想されている。この様な脱炭素社会に向けた動きに後押しされ、カーボンニュートラルである木材など植物バイオマスのマテリアル利用への取り組みが活発化している。セルロースナノファイバー(CNF)は、木材をナノオーダーにまで微細化することで得られる大型産業資材である。軽量、高強度などの優れた特徴があり、次世代の高機能繊維材料として世界中で研究開発が活発化している。本講演では、セルロースナノファイバーの構造、製造、機能化、用途や自動車部材への応用研究について紹介する。

     

    • 【略歴】
      京都大学生存圏研究所生物機能材料分野教授、農学博士。
      1986年京都大学農学研究科林産工学専攻博士後期課程中退。1986年京都府立大学助手。同講師、京都大学木質科学研究所助教授を経て2004年より現職。2014年-2016年ナノセルロースフォーラム会長。
      セルロースナノファイバーの製造と利用に関する研究により、2005年セルロース学会 林治助賞、2009年日本木材学会賞、2016年第37回本田賞、2017年米国紙パルプ技術協会ナノテクノロジー部門賞を受賞

     


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    • 講演:『3Dゲルプリンターから起こすやわらかものづくり革命』
          山形大学大学院理工学研究科機械システム工学専攻 教授
          古川 英光(フルカワ ヒデミツ)氏
       
    • 講演日:平成30年7月14日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       近年、3Dプリンターを始めとするデジタル・ファブリケーションに注目が集まっている。最近、GEは航空機の金属部品を直接3Dプリンターで製造する取り組みを大きく宣伝し始めた。製造の技術とAIの融合が進む中、新材料への注目も高まっている。高強度高機能性のソフト材料の3Dプリンティングでの新たな価値創造の取り組みについて講演する。



    • 【略歴】
      古川英光(ふるかわ ひでみつ)
      (所属)
      山形大学大学院理工学研究科機械システム工学専攻 教授

      (学歴)
      東京工業大学大学院(理学博士)1996年修了

      (職歴・研究歴)
      1996年4月 東京工業大学 工学部 高分子工学科 助手に着任、2002年4月 東京農工大学 工学部 有機材料化学科 助手に着任、2004年4月 北海道大学大学院 理学研究科 生命科学専攻 助教授に着任、2009年4月 山形大学大学院 理工学研究科 機械システム工学専攻 准教授に着任、ソフト&ウェットマター工学研究室(SWEL)を発足、研究室代表に就任、2012年4月 山形大学大学院 理工学研究科 教授に昇任、2013年6月 ライフ・3Dプリンタ創成センター(LPIC)を発足、センター長に就任、2014年2月 「米沢いただきます研究会」を発足・研究会代表に就任、2014年8月 米沢駅2Fに「駅ファブ」を設置、運営代表に就任、2016年11月大学発ベンチャー・株式会社ディライトマターを設立、特別技術顧問に就任、2018年4月やわらか3D共創コンソーシアムを設立、会長に就任

      (専門分野)
      ゲルメカニクス・ゲルフォトニクス・ゲルロボティクス、機械材料・材料力学、高分子・繊維材料

      (受賞歴)
      平成22年度M&M 若手研究者のための国際シンポジウム優秀講演表彰(日本機械学会),平成22年度科学計測振興会賞(科学計測振興会),ナイスステップな研究者2013(文部科学省科学技術学術政策研究所),2015年度日本機械学会機械材料・材料加工部門 部門賞業績賞(日本機械学会),日米先端工学シンポジウムJAFOE Best Speakers Award 2016(日本工学アカデミー、National Academy of Engineering,United States)を受賞


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    • 講演:『フェムト秒レーザーによる化学組成分析と最近の技術動向について』
          東京大学大学院理学系研究科附属地殻化学実験施設 教授
          平田 岳史(ヒラタ タカフミ)氏
       
    • 講演日:平成30年9月8日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       レーザーアブレーション(LA)は、高エネルギーレーザーにより固体試料表面の脱離・エアロゾル化する方法である。この手法に高感度プラズマ質量分析法(ICP-MS法)を組み合わせることで固体試料の直接化学分析が可能となる。この分析手法は、1) 固体試料の分解・溶液化処理が不要、2) 伝導性化処理等が必要ないこと、さらに、3) 局所分析あるいはイメージング分析が可能であるといった特長を有する。講演者らの研究グループでは、化学分析の汎用性の拡大とデータの信頼性の向上を目的に、2枚の可動型反射鏡(ガルバノミラー)を用いた高速多点アブレーション法を実用化し、様々な化学分析に応用してきた。
       従来の化学分析では、分析元素の定量に際し、濃度標準物質が不可欠であった。しかし実際には標準物質が入手できる場合は限定的であり、得られるデータの信頼性に問題があった。これに対し高速多点アブレーション法では、標準試料の入手な試料に対しても正確な元素分析が可能なうえ、アブレーション領域を広げることで(例えば1mm角の領域)、従来の数千から数万分の1程度の超微量元素分析が可能である。本講演では最新の化学分析技術を紹介するとともに、最近、特に分析要請が高まっているナノ粒子の高速イメージング分析に向けた装置開発の現状を紹介する。

     

    • 【略歴】
      1985年3月 東京理科大学理学部化学科卒業
      1990年3月 東京大学大学院理学系研究科化学専門課程博士課程修了
      1990年4月 通商産業省工業技術院地質調査所 通商産業技官
      1993年6月 東京工業大学理学部(助手)
      1998年4月 東京工業大学大学院理工学研究科地球惑星科学専攻 助教授
      2007年4月 東京工業大学大学院理工学研究科地球惑星科学専攻 准教授
      2009年4月 京都大学大学院理学研究科地球惑星科学専攻 教授
      2016年3月 東京大学大学院理学系研究科附属地殻化学実験施設 教授
       現在に至る

     


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    • 講演:『プラズマナノ製造プロセスによる機能材料のダメージフリー加工』
          大阪大学 教授(大学院工学研究科)
          山村 和也(ヤマムラ カズヤ)氏
       
    • 講演日:平成30年9月8日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       当研究室ではワイドギャップ半導体材料やファインセラミックス等の機能材料をダメージフリーに加工する『プラズマナノ製造プロセス』の開発とその実用化に取り組んでいる。本プロセスは、プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)、プラズマ援用研磨(Plasma Assisted Polishing)、熱アシストプラズマ処理による高分子表面に対する高接着性の付与という3つのプロセスから構成される。プラズマCVMでは局所的に発生させた大気圧プラズマを滞留時間制御走査することでナノメータ精度の形状創成が可能であり、プラズマ援用研磨ではプラズマの照射による表面改質と固定砥粒加工とを複合することで、単結晶のSiC、GaN、ダイヤモンドウエハに対して原子オーダで平滑な表面をスクラッチフリーかつダメージフリーに得ることができる。熱アシストプラズマ処理ではフッ素樹脂フィルムとブチルゴム、PDMSとを接着剤を用いることなく強力に接着でき、また、同じくフッ素樹脂フィルム上に銅ペーストや銀インクで形成した微細な電気回路パターンを高密着に形成できている。本講演では、ナノメータ精度のものづくりを安価に実現する上で有用な『プラズマナノ製造プロセス』の原理とその応用例を紹介する。



    • 【略歴】
      2017年8月 大阪大学 教授 (大学院工学研究科)
      2007年4月 大阪大学 准教授 (大学院工学研究科)
      2001年8月 大阪大学 助教授 (大学院工学研究科)
      1991年4月 大阪大学助手 (工学部)
      1991年3月 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻 博士前期課程 修了
      1989年3月 大阪大学工学部精密工学科 卒業

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    • 講演:『日印の産学連携活動の強化を目指して』
          NPO未来アジア技術フォーラム 副理事長
          株式会社クラレンドン研究所 社長
          国友 享二(クニトモ キョウジ)氏
       
    • 講演日:平成30年10月13日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       インドは13億人を抱える民主主義を掲げた世界最大の連邦共和制国家である。多様な民族、言語、宗教によって構成され、英語、ヒンディー語他、15以上の言語が使われている。
       議会制民主主義国家であり、州政府が一定の独立性を持ち、各州に中央政府とは別に政府があり大臣がいる。農民が60%以上であるが、製造業とサービス業が急速に成長している。
       そのようなインドの環境の中で、筆者は本年8月末にニューデリーの再生可能エネルギー学会2018年に出席する機会を得た。この学会では、日本の水素社会構想への挑戦が注目された。さらに本年9月末にインドの地方の大学生一行と日本の地方大学との3週間に渡る交流に参加することができた。この交流では、農業中心のインド地方経済の中で、日本の制度や技術を自分としてどう取り組めるか、その真剣さが感じられた。
       この2つの日印国際交流を通じて、日本の大学の産学連携活動がどのように日印の地方の活性化で生かされて行けるかについて考察したい。

     

    • 【略歴】
      国友 享二

      所属:
      NPO未来アジア技術フォーラム (TeFFA)副理事長
      株式会社クラレンドン研究所 代表取締役

      学歴:
      1970年 東京工業大学生産機械工学科

      専門性:
      2014-現在 (株)クラレンドン研究所 代表取締役(医療、医薬品、エネルギー、パワエレ分野の国際事業開発)
      2013-現在 未来アジア技術フォーラム 副理事長 (エネルギー、医療、パワエレ、バイオ、情報通信技術)
      2011-2013   東京工業大学ソリューション研究機構特任教授(再生可能エネルギー)
      2005-2011   東京工業大学統合研究院機構長補佐
      1970-2005 (株)リコー研究開発部門・新事業開発(デジタルコピア、画像処理システム、マルチメディアシステム、文書システム)
      2009-2014   APS開発研究会事務局長(国際産学連携)

      研究分野:
      ビジネスシステム、エネルギーシステム、医療システム、新事業開発の国際連携分野の技術開発の戦略企画

      実施プロジェクト:
      2016-現在 水素技術の国際共同開発の企画
      2014-現在 スマートシティーの戦略企画
      2013-現在 先進医療システム
      2009-2014 APSプロジェクト
      2011-2013 先進エネルギーシステム
      2009-2013 ソーラ半導体の共同研究
      2005-2011 大学ソリューション研究の概念開発
      2002-2005 日中電子政府プロジェクト
      1998-2002 モバイルビジネスやモバイル印刷
      1989-1998 ソリューション事業の開発
      1983-1989 米国新オフィスシステム研究
      1971-1976 普通紙複写機の新商品・新事業開発

      講演:
         米国、中国、インドにおける多数の新技術講演

      特許:
      2018   コンデンサーバンク
      2006   携帯電話を用いた遠隔印刷システム
      2003   オフィスにおける省電力システム

      特徴:
      日本の大学が発明した技術を用いた、産業界の新事業の企画開発
      産学連携の技術を、日本からアジアに技術移転を推進するための国際技術交流会の企画運営

     


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    • 講演:『CVDダイヤモンドとその現状』
          コーンズテクノロジー株式会社
          津川 和夫(ツガワ カズオ)氏
       
    • 講演日:平成30年10月13日(土)於て 東工大(大岡山) 蔵前会館3F手島精一記念会議室

    • 【講演要旨】
       ダイヤモンドは、1955年GE社によりはじめて人工的に合成された。以来、60 年以上に渡ってその合成法および応用が研究され、伝統的な工具・砥粒から最近の半導体デバイス、さらには量子情報分野へとその応用研究分野を広げてきた。しかし、ここ 10 年ほどの間に、その状況に変化が起こりつつある。ダイヤモンドの結晶成長技術の進歩から大型結晶の成長が可能となり、人工合成ダイヤモンド(Lab-grown diamond)が宝石市場へと進出してきたのである。そして今年 2018 年、ついに DeBeers 社が Lab-grown ダイヤモンドのブランド(Lightbox)を立ち上げるに至っている。弊社は、ダイヤモンドの気相合成(CVD)のトップブランドメーカー(Seki Diamond Systems)として世界的に知られており、その観点から、Lab-grownダイヤモンドの、特に気相成長および市場状況について解説する。



    • 【略歴】
      津川和夫
      コーンズテクノロジー株式会社 ダイヤ成膜装置部 アプリケーションマネジャー
      博士(工学)

      1998年 早稲田大学大学院理工学研究科後期博士課程中退
      1998〜2000年 早稲田大学理工学部 助手
      2000〜2003年 日本ファインセラミックスセンター
      2003〜2013年 産業技術総合研究所
      2010〜2013年 早稲田大学理工学術院 非常勤講師
      2013年〜現在 コーンズテクノロジー株式会社

      現在の主な業務
      単結晶ダイヤモンドのCVD合成プロセスの開発

 


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2018年10月30日 最終更新

新規事業研究会
 E-mail sinjiken@jk9.so-net.ne.jp