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H30年2019年

第314回 月例研究会

  ■ 日 時:2019年2月9日(土曜日) 13:30〜
  ■ 場 所:東京工業大学(大岡山)蔵前会館 3F 手島精一記念会議室
  ■ 参加費:会員無料,非会員参加費 3,000円
    ⇒お申し込み

※ 2月9日の講演会場は東工大 蔵前会館 3F 手島精一記念会議室 になります。
  下記サイトをご参照ください。
  東京工業大学大岡山キャンパスマップ
  http://www.titech.ac.jp/maps/ookayama/

※ 3月の月例会は3月9日 第2土曜日の予定です。

ご参加いただける皆様におかれましては、お手数ですがオンラインまたは電話・FAXにてお申込みいただきますようお願い申し上げます。
  ⇒お申し込み

時間 内容
13:30〜15:00

【講演−1】
題目:『大型リチウムイオン電池の特長と保護回路・モジュール設計について』
講師:マイクロ・ビークル・ラボ株式会社 代表取締役
    松尾 博(マツオ ヒロシ)氏

 

15:15〜16:45

【講演−2】
題目:『ダイヤモンドパワーデバイス』
講師:金沢大学 ナノマテリアル研究所 教授(リサーチプロフェッサー)
    徳田 規夫(トクダ ノリオ)氏

 

 

 

 

 

講演要旨/講師略歴

【講演−1】 
題目:『大型リチウムイオン電池の特長と保護回路・モジュール設計について』
講師:マイクロ・ビークル・ラボ株式会社 代表取締役
    松尾 博(マツオ ヒロシ)氏

「講演要旨」
1. 大型リチウムイオン電池の種類と特長
1.1 正極材料について
1.2 セルの形状について
1.3 電池の作り方

2. 大型リチウムイオン電池の特性
2.1 リチウムイオン電池の利用メリット
2.2 充電・放電特性
2.3 サイクル特性
2.4 保存特性
2.5 安全性試験
2.6 輸送時の注意

3. 保護回路の役目
3.1 過充電と過放電
3.2 保護回路のシステム

4. モジュール設計のポイント
4.1 設計に必要な情報
4.2 安全な運用と信頼性向上のために

プロジェクトの紹介

「略歴」
《 学歴・職歴 》
1960年 10月 三重県上野市(現在の伊賀市)生まれ
1983年 京都工芸繊維大学 工芸学部 無機材料工学科 卒業
1985年 京都工芸繊維大学 工芸学研究科 無機材料工学専攻 修了 (修士)
1985年 宇部興産株式会社 入社 宇部研究所 勤務
1992年 株式会社KRI 入社 受託研究本部 勤務
2005年 マイクロ・ビークル・ラボ株式会社 を設立・代表に就任
2008年 株式会社電源設計 を設立し、2社の代表取締役を兼務。
2012年 福井大学大学院 工学研究科 博士課程 修了(工学博士)
2013年 福井大学 産学官連携本部 客員教授を拝命

《 主要な職歴・著作物等 》
【職歴】
宇部興産でセラミックス(Si3N4)やPVDコーティング、建材などの研究開発を経験した後、KRIでMCFCやSOFCと呼ばれる燃料電池に使用されるセラミックス材料の劣化メカニズムを研究。さらに、車両用PEFCやパワーデバイス(GaN)の研究、大型リチウムイオン電池の事業化を担当。KRIの電池事業の中止に伴い、退職して「マイクロ・ビークル・ラボ」を立ち上げ、小型電気自動車や大型ロボット、蓄電システム向けのリチウムイオン電池モジュールの試作を行っている。2010年には経済産業省のプロジェクトで40kWhの電池を搭載した電気推進船の実証実験を行った。電池の保護回路(BMS)の開発に力を入れており、日本メーカーのセルを使用した電池モジュール(組電池)を1台からカスタムメイドで製作することを得意としている。 また、安全で正しいリチウムイオン電池の使い方の啓蒙活動も行っており、電池の燃焼実験結果で2018年11月に消防防災科学技術賞を受賞した。

【著書】
「リチウムイオン電池における高容量化・高電圧化技術と安全対策」共著、技術情報協会、2018年
「次世代蓄電池の【最新】材料技術と性能評価」共著、技術情報協会、2013年
「新製品開発における軽薄短小化への新技術」共著、技術情報協会、2012年
「リチウムイオン二次電池/材料の発熱挙動、劣化評価と試験方法」共著、技術情報協会、2011年
「リチウム二次電池の車載技術、劣化・トラブル要因」共著、技術情報協会、2011年

 

【講演−2】 
題目:『ダイヤモンドパワーデバイス』
講師:金沢大学 ナノマテリアル研究所 教授(リサーチプロフェッサー)
    徳田 規夫(トクダ ノリオ)氏

「講演要旨」
 ダイヤモンドは、極めて高い電子及び正孔の移動度、熱伝導率、そして絶縁破壊電界を持つことから、革新的なパワーデバイス材料として期待されている。本講演では、現状の半導体ダイヤモンドに関する研究開発状況について概説し、我々の研究成果である原子レベルのダイヤモンドエピタキシャル成長制御、不純物ドーピング制御、ダイヤモンド表面界面構造制御、そしてそれらの技術を用いた半導体ダイヤモンドウェハと我々が世界で初めて実現した反転層チャネルダイヤモンドMOSFET等について紹介する。

「略歴」
氏名 徳田 規夫

所属 金沢大学 ナノマテリアル研究所

現職 教授(リサーチプロフェッサー)

(兼)産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター ダイヤモンドデバイスチーム
クロスアポイントメントフェロー

略歴
2005年3月 筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻修了 博士(工学)
2005年4月〜2009年3月 産業技術総合研究所 特別研究員  
2009年4月〜2011年8月 金沢大学 理工研究域 電子情報学系 助教  
2011年9月〜2018年3月 金沢大学 理工研究域 電子情報学系 准教授
2015年2月〜現在 金沢大学 リサーチプロフェッサー
2018年4月〜2018年7月 金沢大学 理工研究域 電子情報通信学系 准教授
2018年4月〜現在 産業技術総合研究所 クロスアポイントメントフェロー
2018年8月〜2018年11月 金沢大学 ナノマテリアル研究所 准教授
2018年12月〜現在 金沢大学 ナノマテリアル研究所 教授

 

 

 

 



【月例研究会についてのお問い合せ先】

 新規事業研究会 事務局

 〒222-0033 横浜市港北区新横浜3-6-12 日総第12ビル2階
 TEL: 045-624-9933
 FAX: 045-624-9934
 E-mail: sinjiken@jk9.so-net.ne.jp


【参加お申し込み】

 参加費は当日受付けにてお支払いください。
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最終更新 2019年1月17日